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2026|慕尼黑上海光博會|OtO台灣超微光學 與您相見上海
現場將展示多項光譜量測與精密檢測技術,應用涵蓋半導體製程監測、材料分析、雷射應用與光電檢測等領域,本次將帶來多項先進技術,包括高靈敏度光譜量測、超高解析光譜分析、多通道光譜監控,以及OCT光學同調斷層檢測技術,為先進製程與精密量測提供更穩定且高效的解決方案。
📩我們期待與產業夥伴交流,一起探索光譜技術在科研、工業與光電應用中的更多可能性。
📅 日期:2026 年 3 月 18 日 – 3 月 20 日
📍 地點:上海新國際博覽中心
📍 展位號碼:E7-7202
🌟展出重點技術與應用
- 應用於微弱光訊號偵測、精密光譜分析及科研量測。
- 應用於設備整合、可攜式量測及嵌入式光學系統。
- 應用於長時間量測、製程監控及高穩定度光譜分析。
- 應用於半導體材料分析、深紫外光源及高能量光譜檢測。
- 應用於半導體製程、電漿(Plasma)診斷及薄膜沉積監控。
- 應用於生醫影像、材料結構分析及工業非破壞檢測。
- LIBS、VCSEL、拉曼與高精度光譜。
- 製程監控、薄膜量測、電漿光譜與晶圓分析。
2026-03-13